新聞中心
News Center一英寸探針臺重大升級近期公司推出新品一英寸探針臺，針對老產(chǎn)品持續(xù)優(yōu)化1、滑塊精度提高，控制更加精確，操作方便2、顯微鏡支架升級為一體，使用面包板，使得更加牢固，3、增加316球閥進氣口，耐腐蝕，不漏氣4、溫度提高了pid參數(shù)，精度從±0.1升級到±0.5，更度更高，測試結果更加準確5、探針升級，絕緣優(yōu)化，性能穩(wěn)定,探針間不易發(fā)生短路,提高了PCB測試的可靠性
半導體制冷臺的工作過程可以分為四個主要階段：起始階段、正向運行階段、穩(wěn)態(tài)工作階段和反向運行階段。在起始階段，冷端的溫度較高，熱端的溫度較低。然而，由于這兩端之間的溫度差異不足以產(chǎn)生足夠的電壓差，導致無法維持制冷效果。因此，此階段需要其他制冷設備或方法進行預冷。在正向運行階段，冷端的溫度下降，熱端的溫度上升，電流流經(jīng)熱電堆，產(chǎn)生一定的制冷效果。溫度差異逐漸加大。在穩(wěn)態(tài)工作階段，冷端達到了所需的溫度，并且熱端的溫度也相應達到了一定的高溫，設備可以長時間維持制冷狀態(tài)。在反向運行階段...
近期我司新推出了顯微鏡支架產(chǎn)品，設計簡單、功能齊全，是一種降低成本的新型支架。平滑的水平移動非常適合大范圍觀察。作為機器或設備的光學設定規(guī)，顯微鏡可以從磁性固定位置水平滑動以進行觀察。此外，一旦觀看完畢，該裝置可以輕松返回到原來的位置，不妨礙工作。定位銷和限位器功能考慮了重復運動的再現(xiàn)性。這是一個方便使用的支架探針臺顯微鏡支架是探針臺的一部分，它支撐并固定顯微鏡，使顯微鏡能夠進行精密操作。該支架有以下主要功能：穩(wěn)定性：為顯微鏡提供穩(wěn)定的支撐，確保在測試過程中顯微鏡不會發(fā)生移動...
半導體制冷臺(也稱為熱電制冷臺)是一種基于熱電效應的制冷設備，它通過將電能轉化為熱能和冷能，實現(xiàn)制冷效果。當一個電流經(jīng)過兩個不同材料的接觸面時，產(chǎn)生的熱流量將會引起溫度差異，從而產(chǎn)生熱電效應。這被稱為Seebeck效應。Seebeck效應的基本原理是，在兩個不同材料交界處，電子會從能級較高的材料流向能級較低的材料，從而產(chǎn)生電壓差。一般由三個主要部分組成：冷端、熱端和電源。冷端由多個P型和N型的半導體材料連接而成，形成了一個熱電堆。當電源連接到熱電堆時，電流通過堆，通過Seeb...
小型蒸鍍儀在材料科學和工程領域中發(fā)揮著重要作用，廣泛應用于微電子、光電子、材料科學等領域。熱蒸發(fā)是一種將固態(tài)材料迅速加熱并使其轉變?yōu)檎羝倪^程。固態(tài)材料(如金屬或非金屬)被放置在加熱源中，當加熱源加熱到一定溫度時，該材料開始蒸發(fā)。蒸發(fā)的材料蒸汽在真空環(huán)境中自由擴散，并沉積到待鍍物表面形成薄膜。小型蒸鍍儀常見的應用領域：1.微電子工業(yè)：在微電子工業(yè)中用于制備集成電路、半導體芯片和顯示器件等。通過在基板上沉積金屬薄膜或半導體材料，可以實現(xiàn)電路的連接和器件性能的改善。2.光電子工業(yè)...
【新品發(fā)布】——突破極限，1000°高溫探針臺震撼上市！我們非常榮幸地宣布推出全新的1000°高溫探針臺。這款產(chǎn)品是我們經(jīng)過不懈努力和持續(xù)創(chuàng)新的成果，將為您在高溫實驗領域帶來了全新的體驗。1000度高溫真空探針臺（High-TemperatureVacuumProbeStation）主要應用于半導體、材料科學、納米技術、光電子、薄膜技術等領域，具有以下用途：1.半導體器件測試與表征：用于不同溫度下的半導體料件、電子器件和光電子器件的性能測試和分析。2.材料性能表征：研究和測試...
小型濺射儀是種常見的表面處理設備，其原理是利用高能離子束轟擊固體材料，以改變其表面性質(zhì)。主要由濺射靶、工作室、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。其中關鍵的部分是濺射靶和工作室。濺射靶材料是由所需要改變其表面性質(zhì)的物質(zhì)組成，如金屬、陶瓷等。工作室是一個真空環(huán)境，用于避免氧氣、水蒸氣等對濺射過程的干擾。在工作時，首先需要將工作室抽成高真空狀態(tài)。通過真空泵抽取工作室內(nèi)的氣體，減少對離子束的干擾。接下來，將濺射靶放置在工作室內(nèi)，并將需要處理的物體(如基板)放在靶的正對方向。然后，靶與工作室中...
等離子刻蝕機是通過將氣體放電產(chǎn)生等離子體，利用等離子體中的能量來刺激表面上的分子和原子，從而實現(xiàn)清洗和刻蝕的。具體來說，主要包括以下幾個部分：真空腔體、氣體供應系統(tǒng)、放電系統(tǒng)和噴射系統(tǒng)。首先，在真空腔體內(nèi)建立高度的真空環(huán)境，這是因為等離子體只能在真空環(huán)境中穩(wěn)定存在，而且真空環(huán)境可以減少雜質(zhì)對刻蝕過程的干擾。然后，氣體供應系統(tǒng)會向真空腔體內(nèi)注入一定比例的工作氣體和反應氣體。工作氣體一般是沒有參與反應的氣體，例如氬氣或氮氣，而反應氣體則是用于反應的氣體，例如氟元素或氯元素。這樣的...
當前位置：
